石墨制品：其他器件制造用的高純石墨部件

其他器材制作用的石墨制品高純石墨部件
    說到器材和集成電路一般以硅器材（各種回憶單元、MPU)為代表，可是也有化合物半導體器材和LCD(液晶)。這類器材的制作設(shè)備也大多運用高純石墨部件。下面僅介紹其間一部分。
   （1）化合物半導體器材。最常見的化合物半導體器材有發(fā)光二極管和半導體激光。圖所示為發(fā)光二極管的制作工藝。
    這兒所運用的石墨制品有制作（化合物）單品棒時加熱用的加熱器和坩塌，以及外延生長置藝用的工裝。工業(yè)上所運用的外延生長法有液相外延法（LPE）和有機金屬CVD(MOCVD)法。圖2-37所示的是LPE法。LPE法的工藝為把化合物單晶片置于石墨滑板上，使熔融的同成分化合物（元素協(xié)作比不同）單晶片逐層生長，熔融物的容器也用石墨資料。工藝進程中若有金屬成分混入，將阻礙二極管/激光的發(fā)光，所以有必要運用高純石墨部件。
    (2）液晶。當今，液晶制品已成為電子閃現(xiàn)技術(shù)所不可或缺的器材，往后，其運用規(guī)模還會不斷擴大。液晶器材的制作運用玻璃基板，因為在基板上構(gòu)成回路的辦法與硅器材基本相同，其工藝進程也大量地運用炭素制品，因為版面所限不再臚陳，但其大有作為。
   （3）液晶制作玻璃基板熱處理用的石墨板。在對液晶閃現(xiàn)設(shè)備用的玻璃基板進行緩冷處理時，運用內(nèi)埋金屬加熱器的石墨板。為了防止石墨粉黏附在玻璃上，一般運用玻璃炭涂層石墨。別的，因為玻璃基板的平面度極為重要，要求石墨板自身的平面度要好。玻璃金屬封
   （4）TFT型液晶閃現(xiàn)用離子注入設(shè)備部件。作為液晶閃現(xiàn)辦法的一種，TFT辦法是在Si薄膜上構(gòu)成多個晶體管，可是需求添加摻雜物質(zhì)的As或P。其做法與硅半導體相同也用離子注入法，部分設(shè)備也運用石墨制品高純石墨部件。因為離子束的沖擊以及防止晶體管器材內(nèi)混入摻雜物質(zhì)以外的不純物，也需求運用高純石墨。